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化 學 氣 相 沉 積 [ 化 学 气 相 沉 积 ] (huàxuéqìxiāngchénjī)

1.	名	Chemische Gasphasenabscheidung (engl: chemical vapor deposition, CVD, ein Beschichtungsverfahren, z. B. für Wafer) [技]